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/ detailed description 電子工業制備超純水的工藝大致分成以下3種:
1、采用離子交換樹脂制備電子工業超純水的傳統水處理方式,其基本工藝流程為:原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點。
2、采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合制備電子工業超純水的方式,其基本工藝流程為:原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點
3、采用反滲透設備與電去離子(EDI)設備進行搭配制備電子工業超純水的的方式,這是一種制取超純水的新工藝,也是一種環保,經濟,發展潛力巨大的超純水制備工藝,其基本工藝流程為:原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點
天宇純水設備設計圖(部分展示):
超純水水質參考標準:
A:需要用戶注意的是,分析數據通常依賴于儀器和技術。因此,表1的數字只是基線。每當半導體行業開發新的線寬時,應對此表進行修訂。
B:類型E-1.3中顯示的值是將國際半導體技術發展藍圖中己知污染物的風險因素與當前半導體加工中的相關線寬的生產制程進行校準的結果,在某些情況下這些值可能會與類型E-1.2中的值不同。用戶如果對E-1.2型水使用更高數值,可以放心使用。
除電阻率外,所有值均等于或小于。
C:硼僅作為監測離子交換床的操作參數進行監測。
備注:以上數據根據英文版ASTM D 5127-2018翻譯而成,如有偏差請以英文版原文為準。
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